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三星7LPP工藝是其首款使用極紫外(EUV)光刻的半導(dǎo)體工藝技術(shù),與10nm FinFET相比,可大大降低復(fù)雜性,并提供更高的良率和更快的周轉(zhuǎn)時間。新思科技定制設(shè)計工具已針對三星7LPP相關(guān)要求進行更新。此外,三星還將提供面向新思科技的工藝設(shè)計套件(PDK)和定制設(shè)計參考流程。
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